問題一覧
1
導体, 半導体, 絶縁体
2
元素半導体
3
ゲルマニウム
4
シリコン
5
99.999999999%
6
珪石
7
Si+3HCl→SiHCl3+H2, SiHCl3+H2→Si+3HCl
8
CZ法
9
ダイヤモンド構造
10
共有結合
11
電子対
12
基底状態
13
励起状態
14
価電子帯
15
伝導帯
16
間接遷移型半導体
17
直接遷移型半導体
18
真性半導体
19
p型半導体
20
ホウ素B, ガリウムGa, インジウムIn
21
n型半導体
22
アンチモンSb, リンP, ヒ素As
23
非縮退半導体
24
多数キャリア, 少数キャリア
25
ドリフト, 拡散, 再結合, 生成
26
平均自由行程
27
平均緩和時間
28
ドリフト速度
29
移動度
30
格子散乱, 不純物散乱
31
格子散乱
32
不純物散乱
33
ドリフト電流
34
定電流源, 電圧計
35
ホール効果
36
拡散電流
37
イオン注入
38
再結合
39
輻射再結合
40
非輻射再結合
英語
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80問 • 11ヶ月前問題一覧
1
導体, 半導体, 絶縁体
2
元素半導体
3
ゲルマニウム
4
シリコン
5
99.999999999%
6
珪石
7
Si+3HCl→SiHCl3+H2, SiHCl3+H2→Si+3HCl
8
CZ法
9
ダイヤモンド構造
10
共有結合
11
電子対
12
基底状態
13
励起状態
14
価電子帯
15
伝導帯
16
間接遷移型半導体
17
直接遷移型半導体
18
真性半導体
19
p型半導体
20
ホウ素B, ガリウムGa, インジウムIn
21
n型半導体
22
アンチモンSb, リンP, ヒ素As
23
非縮退半導体
24
多数キャリア, 少数キャリア
25
ドリフト, 拡散, 再結合, 生成
26
平均自由行程
27
平均緩和時間
28
ドリフト速度
29
移動度
30
格子散乱, 不純物散乱
31
格子散乱
32
不純物散乱
33
ドリフト電流
34
定電流源, 電圧計
35
ホール効果
36
拡散電流
37
イオン注入
38
再結合
39
輻射再結合
40
非輻射再結合