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デバイス MOSFET

デバイス MOSFET
14問 • 2年前
  • Akihiro Kodama
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    問題一覧

  • 1

    MOSFETのM・O・Sの意味を答えよ

    金属, 酸化物, 半導体

  • 2

    MOSFETの理想条件について、金属と半導体の関係を答えよ

    仕事関数が同じ

  • 3

    MOSFETの理想条件について、酸化物内や表面に( )が存在しない

    電荷

  • 4

    仕事関数とは、( )と( )のエネルギーの差である

    真空準位, フェルミ準位

  • 5

    電子親和力とは( )と( )のエネルギーの差である

    真空準位, 伝導帯下端

  • 6

    各領域のエネルギーバンドが平坦に示されることをなんと言うか

    フラットバンド状態

  • 7

    MOSFETにおいて、ゲート端子に印加する極性や大きさによって状態が3つに変化する。それぞれ答えよ

    蓄積状態, 空乏状態, 反転状態

  • 8

    MOSFETにおいて、蓄積状態は金属側にどのような電圧を印加するとなるか

    負の電圧

  • 9

    蓄積状態は( )に( )が蓄積される状態となるため、蓄積状態と呼ばれる

    半導体表面, 正孔

  • 10

    MOSFETにおいて、金属側にどのような電圧を印加すると空乏状態となるか

    正の電圧

  • 11

    MOSFETにおいて、反転状態とは金属側にどのような電圧を印加した場合になるか

    より大きな正の電圧

  • 12

    MOSFETにおいて、ゲート電圧印加によるドレイン電流の流れ方によっMOSFETが2つに分類される。それぞれ答えよ

    エンハンスメント型, デプレッション型

  • 13

    エンハンスメント型の特徴を答えよ。また、デプレッション型の特徴を答えよ。

    ゲート端子に電圧を印加しないとドレイン電流が流れない, ゲート端子に電圧を印加しなくてもドレイン電流が流れる

  • 14

    MOSFETとバイポーラトランジスタを比較した場合、どのような点があげられるか

    入力インピーダンスが高い, 温度特性が安定, 構造がバイポーラトランジスタより単純, 動作がバイポーラトランジスタより遅い

  • 英語unit10

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  • 1

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    金属, 酸化物, 半導体

  • 2

    MOSFETの理想条件について、金属と半導体の関係を答えよ

    仕事関数が同じ

  • 3

    MOSFETの理想条件について、酸化物内や表面に( )が存在しない

    電荷

  • 4

    仕事関数とは、( )と( )のエネルギーの差である

    真空準位, フェルミ準位

  • 5

    電子親和力とは( )と( )のエネルギーの差である

    真空準位, 伝導帯下端

  • 6

    各領域のエネルギーバンドが平坦に示されることをなんと言うか

    フラットバンド状態

  • 7

    MOSFETにおいて、ゲート端子に印加する極性や大きさによって状態が3つに変化する。それぞれ答えよ

    蓄積状態, 空乏状態, 反転状態

  • 8

    MOSFETにおいて、蓄積状態は金属側にどのような電圧を印加するとなるか

    負の電圧

  • 9

    蓄積状態は( )に( )が蓄積される状態となるため、蓄積状態と呼ばれる

    半導体表面, 正孔

  • 10

    MOSFETにおいて、金属側にどのような電圧を印加すると空乏状態となるか

    正の電圧

  • 11

    MOSFETにおいて、反転状態とは金属側にどのような電圧を印加した場合になるか

    より大きな正の電圧

  • 12

    MOSFETにおいて、ゲート電圧印加によるドレイン電流の流れ方によっMOSFETが2つに分類される。それぞれ答えよ

    エンハンスメント型, デプレッション型

  • 13

    エンハンスメント型の特徴を答えよ。また、デプレッション型の特徴を答えよ。

    ゲート端子に電圧を印加しないとドレイン電流が流れない, ゲート端子に電圧を印加しなくてもドレイン電流が流れる

  • 14

    MOSFETとバイポーラトランジスタを比較した場合、どのような点があげられるか

    入力インピーダンスが高い, 温度特性が安定, 構造がバイポーラトランジスタより単純, 動作がバイポーラトランジスタより遅い