問題一覧
1
消毒とは〇〇〇の数を減らすために用いられる処理方法。
微生物
2
滅菌とは、〇〇を含む全ての微生物を〇〇させる処理方法。
芽胞, 死滅
3
芽胞とは、一部の細菌が形づくる、極めて〇〇〇の高い細胞構造。
耐久性
4
消毒、滅菌前には十分な〇〇が必要である。
洗浄
5
消毒薬には、〇〇〇消毒薬、〇〇〇消毒薬、〇〇〇消毒薬が存在する。
高水準, 中水準, 低水準
6
高水準消毒薬を3つ選べ。
グルタラール, フタラール, 過酢酸
7
中水準消毒薬を全て選べ。
次亜塩素酸ナトリウム, エタノール, ポビドンヨード, フェノール, イソプロパノール
8
低水準消毒薬を全て選べ。
クロルヘキシジングルコン酸塩, ベンザルコニウム塩化物, アルキルジアミノエチルグリチル塩酸塩
9
創傷部位に使う消毒を全て選べ。
ポビドンヨード(原液), クロルヘキシジン(0.05%), オキシドール(原液～2～3倍希釈), 次亜塩素酸ナトリウム(0.01%(100ppm)), アクリノール(0.05%～0.2%)
10
手術野の皮膚に使う消毒薬を答えよ。
クロルヘキシジン(0.5%), ポビドンヨード, エタノール含有ポビドンヨード(63%)
11
手術野の粘膜に使用する消毒を選べ。
ポビドンヨード, 塩化ベンザルコニウム(0.01～0.025%), 塩化ベンゼトニウム
12
膣・外陰部に使用する消毒薬はどれか。
塩化ベンザルコニウム(0.02%～0.05%), 塩化ベンゼトニウム(0.02%), 産婦人科用イソジンクリーム
13
口腔での消毒薬を選べ。
ポビドンヨードガーグル(15～30倍希釈), オキシドール(10倍希釈), アクリノール(0.05%～0.1%), 塩化ベンザルコニウム(0.004%)
14
外眼部および結膜嚢
ポビドンヨード, クロルヘキシジン(0.02%)
15
注射部位の消毒薬を選べ。
アルコール, ポビドンヨード, エタノール含有ポビドンヨード(63%), クロルヘキシジン(0.05～0.5%), クロルヘキシジンアルコール(0.5～1%), 塩化ベンザルコニウム(0.02～0.1%)
16
滅菌法には〇〇蒸気滅菌、〇〇〇〇オキサイドガス滅菌、〇〇〇水素低温ガス〇〇〇〇滅菌、〇〇滅菌法がある。
高圧, エチレン, 過酸化, プラズマ, 乾熱
17
高圧蒸気滅菌の適応を全て選べ。
鋼製小物, リネン類, シリコン製品, ガラス製品
18
高圧蒸気滅菌とは、高圧の〇〇を用いる方法で、耐〇性、耐〇性の器材に適している。
蒸気, 熱, 水
19
高圧蒸気滅菌は、安全・確実な方法で〇〇〇で滅菌が可能なため、現在最も推奨される、
短時間
20
エチレンガスオキサイド滅菌の適応を全て選べ。
プラスチック製品, ゴム製品, 軟性内視鏡, 紙, ラテックス製品
21
エチレンガスオキサイド滅菌は、熱や湿度に弱い器材や、〇〇な構造の器材に適している。
複雑
22
エチレンガオキサイドガス滅菌は〇〇ガスを用いることやコストが〇いこと、滅菌に〇〇がかかることもあり、他の滅菌法が行えない場合に用いる。
有毒, 高, 時間
23
エチレンオキサイドガス滅菌は〇〇〇〇〇〇〇が必要。
エアレーション
24
過酸化水素低温ガスプラズマ滅菌法の適応はどれか。
光学機器、電子機器, プラスチック製品, ガラス製品, 鋼製小物
25
過酸化水素低温ガスプラズマ滅菌は低温、低湿度、〇〇〇で滅菌が可能であるが。安全な方法だが、〇〇〇が高い。
短時間, コスト
26
過酸化水素低温ガスプラズマ滅菌はエチレンオキサイドガス滅菌と異なり、滅菌後にエアレーションが〇〇であるため、直ぐに使用できる。
不要
27
乾熱滅菌法の適応はどれか。
ガラス製品, 鋼製小物, 繊維製品
28
乾熱滅菌器はにを用いる方法で、耐〇性はあるが耐〇性のない器材に適する。
熱, 水
29
乾熱滅菌は水を使用しないため、〇〇の心配はないが、時間がかかり、〇〇による変形にも注意が必要となる。
錆び, 高温
30
スポルティングの分類は、〇〇〇〇〇、〇〇クリティカル、〇〇クリティカルに分けられる。
クリティカル, セミ, ノン
31
スポルティングの分類のクリティカルは通常〇〇の組織や〇〇に挿入されるものである。
無菌, 血管
32
クリティカルの処理・処置方法全て選べ。
滅菌済み製品を購入, 高圧蒸気滅菌, 酸化エチレンガス滅菌, 過酸化水素低温ガスプラズマ滅菌, 過酸化水素ガス低温滅菌, 過酢酸10分, グルタラール30～60分
33
スポルティングの分類のクリティカルの対象医療器具はどれか。
手術器具, 注射器、穿刺、縫合などの観血的な処置に使用される器具, インプラント
34
スポルティングの分類のセミクリティカルとは、損傷のない〇〇および創のある〇〇に接触するものである。
粘膜, 皮膚
35
スポルティングの分類セミクリティカルの高水準消毒全て選べ。
過酢酸(5分), フタラール(5分以上), グルタラール(30分～1時間), ウォッシャーディスインフェクターを用いた熱水消毒(80℃、10分)
36
スポルティングの分類のセミクリティカルの中水準消毒全て選べ
次亜塩素酸ナトリウム, アルコール
37
スポルティングの分類のセミクリティカルの高水準消毒対象医療器具はどれか。
人工呼吸器, 麻酔回路, 軟性内視鏡, 膀胱鏡
38
スポルティングの分類のセミクリティカル対象医療器具で中水準消毒はどれか。
咽頭鏡ブレード, バイドブロック, ネブライザー, 哺乳瓶, 乳首
39
スポルティングの分類のノンクリティカルとは損傷のない〇〇と接触するものである。
皮膚
40
スポルティングの分類のノンクリティカルの処理方法(低水準消毒)全て選べ。
両性界面活性剤, ベンザルコニウム塩化物, クロルヘキシジン酸塩
41
スポルティングの分類のノンクリティカル対象医療器具を全て選べ。
血圧計, 酸素マスク, ガーグルベースン, 吸引瓶, 薬杯, 便器, 尿器
42
エンベロープのあるウイルスは消毒感受性はどうか。
良い
43
消毒用エタノールは芽胞に活性があるか。
ない
44
次亜塩素酸ナトリウムで一般細菌には〇〇〇ppm液で消毒する。
200
45
ノロウイルスやHBVの次亜塩素酸ナトリウムの消毒は〇〇〇〇ppmとする。
1000
46
ノロウイルスでトイレ周辺など高頻度接触環境面を定期的に〇〇〇ppm次亜塩素酸ナトリウムで清拭消毒する。
200
47
ノロウイルスで嘔吐物や便が付着した部分は〇〇〇〇ppmの次亜塩素酸ナトリウムで消毒する。
1000
48
滅菌物の保管にて室内は〇〇～〇〇℃、湿度〇〇～〇〇％を目安に維持する
20, 25, 40, 50
49
滅菌物は床から少なくとも〇〇ｃｍ、天井のスプリンクラー設備周辺から〇〇ｃｍ以上、外壁から〇ｃｍ以上の距離を確保する。
20, 45, 5